鍍層作為保證電子行業產品質量可靠性和穩定性的主要工藝,其厚度是產品質量的最重要保證因素,因此,對鍍層厚度的質量控制/保證至關重要,X射線熒光(XRF)因為其非破壞性、測量快速、易于使用,已成為一種廣泛使用的鍍層厚度和成分測量技術。
曉INSIGHT專為微光斑和超薄鍍層分析而設計,可提供極高的計數率,用于測量小于 50 μm 的特征上的納米級鍍層,并提供高精度的檢測結果,同時保持較短的測量時間,這借助于其內部采用高強度毛細管光學系統和高靈敏度的檢測器。幫助諸多的PCB、半導體等電子相關行業輕松應對超薄鍍層帶來的檢測挑戰,有效提高生產力,確保符合規范,以避免出現性能低下的風險以及與廢料或返工相關的成本。
Au/Ni/Cu/ PCB;Sn/Cu/PCB;Au/NiP/Cu/PCB;Ag/Cu/PCB;Sn/Cu/PCB;SnPd/Cu/PCB;Au/Pd/NiP/Cu/PCB | ![]() 電子和電氣工業中,電接觸用保護和耐磨鍍層的應用正在不斷增多。接觸件作為電連接器的核心零部件,通過表處理能提高接觸件的耐蝕、耐磨功能,也能在很大程度上優化接觸件的傳輸功能 電連接器接觸件基材一般為銅合金,常用的鍍層有:鍍錫、鍍金、鍍銀、鍍鎳、鍍鈀等。 |
晶圓是指硅半導體集成電路制作所用的硅晶片。在生產過程中,需要對晶圓進行電鍍工序,即在晶圓上電鍍一層導電金屬,后續還將對導電金屬層進行加工以制成導電線路。 晶圓作為芯片的基本材料,其對于電鍍鍍層的要求嚴格,故而工藝的要求也較高。晶圓電鍍時必須保證鍍層的均勻性和厚度,方能保證晶圓的質量。 |
化學鍍鎳/浸金(ENIG)鍍層是當今印刷電路板制造中使用較普遍的表面處理之一。浪聲科學為您提供高效的、智能的XRF分析儀器,以幫客戶降低物料成本,滿足IPC-4552B、IPC-4556、IPC-4554、IPC-4553A等工業規格要求。 |
特點 | 自上而下的測量結構,XYZ測量平臺,Muti-FP多層算法 |
元素范圍 | Na(鈉)—Fm(鐨) |
分析層數 | 5層(4層+基材)每層可分析10種元素,成分分析最多可分析25種元素 |
X射線管 | 微聚焦X射線管、毛細管X射線管(可選配) |
探測器 | 高靈敏度大面積SDD探測器、SDD 50mm2超大面積探測器(可選配) |
準直器 | 多準可選,多準可組合 |
相機 | 高分辨率CMOS彩色攝像頭,500萬像素 |
可編程XY平臺 | 可選配 |
Z軸移動范圍 | 150 mm |
樣品倉尺寸 | 564mm×540mm×150mm(L×W×H) |
外形尺寸 | 664mm×761mm×757mm(L×W×H) |
重量 | 120kg |
電源 | AC 220V±5V 50Hz(各地區配置稍有不同) |
額定功率 | 150W |